請教一個簡單的小問題 - 專利

: A公司意外取得目標客戶日本B公司的新解決方案的設計圖(非屬公開揭露的情形下)
(Q1)
: 由於屬於很初期的研發階段, B公司有可能已申請或未申請專利
: 若A公司在設計或專利案尚未公開前,也去申請實施例包含該新解決方案的專利
(Q + Q1)
: 則可能的狀況為何?

: 答案1:
: 兩案分別形成上下位專利?
: (因兩案特徵限制可能稍有不同僅在實施例有重疊發生, 且因兩案皆尚未公開所以無法教
: 示有同樣實施例的可能)
: 結果B公司使用該解決方案須取得A公司授權 (A使用亦須B授權)
: 若兩案範圍一模一樣(例如皆為長相一模一樣的新式樣專利), 則後申請者失效
: 答案2:
: 先申請者贏得專利權, 後申請者失效
: 且無論A案是否過關, B公司可舉證說明該案已然在A公司申請前在海外他廠內有測試或進
: 入生產(一定程度的公開?), 因而取得合法使用權?
: 個人認為應該為答案2的結果才對? 還請板上前輩指正...

大方向是這樣沒錯 但綜合而言可能沒有說清楚 此案之爭點應在於：

1. A是否適格發明人

請見專§5、34 A公司非適格之專利申請權人

故若其專利被准予專利 則該專利將得被B以專利法第34條予以核駁

簡單來說 除非A公司能夠證明該Q1為公開技術或該Q1或Q係由該A發明

否則A 連專利申請權都沒有

另外 此舉更可能有妨礙祕密(取得之方式)、偽造文書(申請權證明)、

若A、B公司為合作廠商 則A更具背信等罪之虞

2. 該Q是否具有可專利性

假設A具專利申請權 則依專§23或專§31

後申請案將無法取得"發明"專利無誤

又 專§57 第2項有其但書..

再者 廠內使用在大部份狀況下均非為公開 ( ￣ c￣)y▂ξ

請參酌

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