韓國企業發力EUV光刻技術 專利申請量佔上 - 股票

1.原文連結：
https://www.cnbeta.com/articles/tech/1054041.htm

2.原文內容：

韓國企業發力EUV光刻技術 專利申請量佔上風

援引韓媒 BusinessKorea 報導，以三星為代表的韓國企業在 EUV 光刻技術方面取得了極
大進展。根據對韓國知識產權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關專利統計，
在 2014 年達到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。

特別需要注意的是，韓國企業在 EUV 光刻技術上一直不斷縮和國外企業之間的差距。在
韓國知識產權局 2019 年收錄的 50 項專利中，其中 40 項是由韓國人提交的，只有 10
項是外國人提交的。這也是韓國人提交的專利首次超過外國人。到 2020 年，韓國提交的
申請也將是外國人申請的兩倍以上。

EUV 光刻技術整合到多種先進技術，包括多層反射鏡、多層膜、防護膜、光源等等。在過
去十年裡，包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發，以確保技術領先。最
近，代工公司開始使用 5 納米 EUV 光刻技術來生產智能手機的應用處理器（AP）。

如果按照公司劃分，前六家公司佔到總專利申請量的 59%。其中卡爾蔡司（德國）佔18％
，三星電子（韓國）佔15％，ASML（荷蘭）佔11％，S＆S Tech（韓國）佔8％，台積電（
台灣）為6％，SK海力士（韓國）為1％。

如果按照詳細的技術項目來劃分，處理技術（process technology）的專利申請量佔32％
；曝光設備技術（exposure device technology）的專利申請量佔31％；膜技術（mask
technology）佔比為 28%，其他為 9%。

在工藝技術領域，三星電子佔39％，台積電佔15％，這意味著兩家公司佔54％。在膜領域
，S＆S Tech佔28％，Hoya（日本）佔15％，Hanyang University（韓國）佔10％，
Asahi Glass（日本）佔10％，三星電子佔9％。

3.心得/評論：

沒想到EUV專利申請量韓國佔比那麼高

然後三星在EUV每個領域的專利佔比都不小

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