美國恐進一步限制 DUV 出口中國，三星與 - 股票

原文標題：美國恐進一步限制 DUV 出口中國，三星與 SK 海力士憂受衝擊
(請勿刪減原文標題)
原文連結：https://finance.technews.tw/2021/04/13/u-s-fears-further-restriction
s-on-duv-exports-to-china/
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發布時間：April 13, 2021 by Atkinson Tagged
(請以原文網頁/報紙之發布時間為準)


原文內容：

針對全球性的晶片缺貨問題，美國拜登政府才在 14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠，
汽車製造廠商、以及台灣台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議，以討論解
決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。而在此同時，南韓媒體報導，面對中國積極
發展半導體產業的態度，美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光 （EUV） 曝光機的出口到中
國，恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光 （DUV） 曝光設備都將被列入禁止出口中國品項。

南韓媒體 《BusinessKorea》 的最新報導指出，美國拜登政府為限制中國在半導體產業
中的地位，日前由美國國家人工智慧安全委員會提出了一項政策，希望禁止向中國出口包
括浸潤式 ArF 深紫外光的曝光機在內的半導體製造設備。而如果一旦這項計畫付諸施行
，則目前在中國設有大型晶圓廠的三星與 SK 海力士等南韓記憶體大廠擔心，未來將可能
受到進一步的衝擊。

報導指出，之前歐盟委員會曾經表示，為了限制中國在半導體產業的地位，美國政府必須
與荷蘭及日本政府合作，限制相關半導體設備出口到中國。因為前一任的美國川普政府已
經阻止了荷蘭商曝光機大廠艾司摩爾 （ASML） 出口 EUV 曝光機到中國的計畫。所以，
一旦也限制浸潤式 ArF 深紫外光曝光機出口到中國，則顯示美國禁止更多的半導體設備
出口到中國去。
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而如果美國政府決定禁止包括浸潤式 ArF 深紫外光曝光機在內的更多半導體設備出口到
中國，則目前在中國設有大型晶圓廠的南韓三星與 SK 海力士兩家執記憶體市場牛耳的廠
商，擔心其在中國的投資將會受到衝擊。目前，三星在中國西安設有生產記憶體的晶圓廠
，目前正在生產第 6 代 3D V-NAND。而 SK 海力士則是將工廠設在中國無錫，目前該工
廠也在生產 10 奈米級的 DRAM。而在三星與 SK 海力士在中國的工廠中，目前都採用到
了浸潤式 ArF 深紫外光曝光機。

報導進一步指出，目前中國政府正在與三星討論，希望三星能及早完成在西安工廠相關投
資。另外，在 SK 海力士的方面，面對當前全球晶片缺貨的情況，SK 海力士在中國無錫
工廠也正開始的相關的晶圓代工計畫。因此，如果未來美國政府進一步收緊對中國出口半
導體設備的情況，有中國學者認為，美國將很難准許南韓企業在中國使用具備美國技術的
半導體設備。因此這對兩家公司來說，在未來製造技術的發展上，恐將面臨很大的麻煩。

（首圖來源:shutterstock)


心得/評論： ※必需填寫滿20字
韓國在中國市場獲得的經濟利益遠超過台灣

韓國政府也是蠻親中 鼓勵韓商赴中投資

若真的發展成這樣

恐怕韓國政府也要傷腦筋了


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