新思攜台積電，5奈米EUV製程技術有新進展 - 股票

1.原文連結：

https://www.chinatimes.com/realtimenews/20181017002546-260410

2.原文內容：

新思科技宣布其數位與客製化設計平台已通過台積電(2330)最先進極紫外光微影
(extreme-ultra-violate，EUV)5奈米製程技術的認證，此項認證乃植基於雙方在EUV製程
上多年來的廣泛合作，進而提供高度優化的設計解決方案，加速新一代設計的發展。

Design Compiler Graphical synthesis工具經過嚴格的5奈米實施驗證，並在時序、面積
、功耗和congestion等方面與IC Compiler II佈局繞線呈現相關性。透過通路銅柱優化的
增強、多位元記憶庫存、連結優化等創新技術，Design Compiler Graphical的5奈米功能
可提升效能、功耗與面積的表現。

新思行銷副總裁Michael Jackson指出，先期的路徑搜尋與台積電的廣泛合作，讓共同客
戶能充分利用台積電5奈米製程技術及新思科技的設計平台。雙方的合作也加速客戶取得5
奈米製程技術，協助讓當前最高密度的設計快速進入量產，並具備同級最佳的功耗、效能
與面積表現。

台積電設計建構行銷處資深處長Suk Lee表示，5奈米EUV製程技術是台積電的核心里程碑
，它將持續擴展台積電在業界的最佳製程技術領導地位，台積電與新思就流程的簡化與結
果效率的提升保持密切合作，讓雙方共同的客戶可以採用此新製程技術與新思科技設計平
台。這項合作關係將為高效能運算與超低功耗行動應用帶來最大的process entitlement
，也期待雙方能就下一代節點持續進行合作。

新思PrimeTime時序分析與簽核解決方案中的參數晶片內變異(POCV)分析經強化後，能準
確地掌握因製程微縮與近臨界區超低功耗的節能運作所增加的非線性變化。此外，物理感
知ECO經擴充後能支援更複雜的佈局與電網設計規則，以改善雍塞、佈局，並提升腳連結
感知。

目前應用於台積電的5奈米製程技術的新思科技設計平台之技術檔案、程式庫及寄生數據
已可透過台積電取得。


3.心得/評論：


明天台積電就要法說會了
不知道會不會丟出什麼震撼彈
上次下修年增率 就崩崩

最近想出清賠錢持股
全數投入台積電
萬點抽插好累

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