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三星全力研發EUV技術 少主證實親赴ASML總部

10/14 17:27
經濟日報 編譯林奕榮／綜合外電

三星電子少主李在鎔14日證實，他這幾天親自走訪荷蘭一趟，拜會荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）的高層，尋求與艾司摩爾進一步加強雙方業務關係。

李在鎔數月前向南韓總統文在寅表示，三星正致力研發極紫外光（EUV）微影技術；日前他親赴荷蘭，14日返回南韓，李在鎔表示：「這趟行程，我一直在尋求建立與EUV相關的關係。」

三星電子聲明表示，李在鎔此次荷蘭之行，曾與ASML執行長韋尼克（Peter Wennink）、技術長范登布林克（Martin van den Brink）等高管在ASML總部會面。

會談內容涵蓋多項攸關雙方共同利益的議題，例如ASML銷售EUV設備的計畫，以及雙方合作研發次世代記憶晶片的細節。此外，李在鎔也參訪ASML的EUV設備生產線。

EUV設備是7奈米製程以下晶片不可或缺的生產設備，相較於較舊的深紫外光（DUV）微影技術，EUV技術擁有良率方面的優勢；ASML在EUV技術的智慧財產權和成本上深受信賴。

日本把南韓自信任貿易夥伴名單剔除後，南韓總統文在寅鼓勵三星和國內其他主要製造商投資，降低對日本重要工業原料的依賴。



3.心得/評論：
三星少主李在鎔親赴荷蘭與ASML洽談雙邊合作事宜，增強與ASML雙邊技術往來，三星將全力投入極紫外光微影技術的開發，以克服7nm以下製程的良率
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